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第一章 三氟化氮產(chǎn)品概述
1.1 電子特種氣體——三氟化氮概述
1.2 三氟化氮的產(chǎn)業(yè)與市場簡述
1.2.1三氟化氮的應用領域
1.2.2三氟化氮的市場簡況
1.2.3 三氟化氮的產(chǎn)業(yè)簡況
1.3 三氟化氮行業(yè)的特點
1.3.1 行業(yè)興衰與半導體、光伏、液晶顯示產(chǎn)業(yè)發(fā)展有著關系密切
1.3.2 三氟化氮產(chǎn)品優(yōu)勢得到發(fā)揮
1.3.3 市場壟斷性強
1.3.4 近年全球三氟化氮應用市場在迅速擴大
1.4 在當前環(huán)境保護要求的形勢變化下三氟化氮產(chǎn)品發(fā)展前景成為變數(shù)
1.4.1 三氟化氮成為氣候變化新威脅UNFCC已將其列入“監(jiān)管”氣體之中
1.4.2 三氟化氮替代產(chǎn)品得到發(fā)展
第二章 電子特種氣體、氟化工品應用市場
2.1 電子特種氣體概述
2.2 電子特種氣體制造中的主要技術(shù)方面
2.3 電子特種氣體的純凈度要求
2.4 電子特種氣體產(chǎn)品市場競爭的焦點問題
2.4.1 對電子特種氣體雜質(zhì)、純度要求的問題
2.4.2 氣體配送及供應問題
2.4.3 儲存、使用中的安全性問題
2.4.4 成本性問題
2.5 國內(nèi)外電子特種氣體行業(yè)發(fā)展概述
2.5.1 境外電子特種氣體生產(chǎn)與市場情況
2.5.2 國內(nèi)電子特種氣體行業(yè)及其發(fā)展
2.6 氟化工產(chǎn)業(yè)概述
2.6.1 氟化工產(chǎn)業(yè)中的重要產(chǎn)品
2.6.2 我國氟化工產(chǎn)業(yè)發(fā)展情況
第三章 三氟化氮的主要特性
3.1 物理特性
3.2 毒性及危險性
3.3 反應性
3.4 相關的安全性
3.5 主要性能及標準
3.5.1 對純度的一般質(zhì)量指標要求
3.5.2 美國氣體及化學產(chǎn)品公司的NF3的工業(yè)標準及產(chǎn)品不同等級標準要求
3.5.3 SEMI的三氟化氮標準
3.5.4 三氟化氮 我國國家標準（GB/T 21287-2017）
第四章 三氟化氮的主要生產(chǎn)工藝方法
4.1 NF3的制備方法
4.1.1 概述
4.1.2 直接化合法
4.1.3 氟和氟化氫銨法
4.1.5 電解法
4.2 NF3粗品純化工藝加工
4.2.1 NF3粗品純化工藝法的種類
4.2.2 低溫精餾法
4.2.3 化學吸收法
4.2.4 化學轉(zhuǎn)化法
4.2.5 選擇吸附法
4.3 安全生產(chǎn)的問題
4.4 在半導體晶元工廠的供應系統(tǒng)
第五章 三氟化氮的主要應用領域概述
5.1 概述
5.2 三氟化氮在集成電路中的應用
5.2.1 集成電路芯片制程
5.2.2 化學氣相沉積和氣體應用
5.3 作為清洗劑、刻蝕劑在半導體制造中的應用
5.3.1 替代PFC作為清洗劑
5.3.2 等離子增強化學氣相沉積（PECVD）
5.3.3 在PECVD的干刻蝕、清洗加工中的應用
5.3 三氟化氮在液晶顯示器中的應用
5.4 高純NF3在薄膜硅太陽電池中的應用
5.4.1 非晶硅薄膜太陽能電池
5.4.2 Si薄膜的材料特性
5.4.3 非晶硅薄膜太陽能電池制作工藝及高純硅烷其應用
5.5 用三氟化氮作氟化劑
5.5.1 六氟化鎢的理化性質(zhì)及用途
5.5.2 NF3是制造WF6
5.5.3 世界WF6 的生產(chǎn)現(xiàn)況
5.5.4 國內(nèi)生產(chǎn)WF6的情況
5.6 三氟化氮作為氟源在化學激光器中應用
5.7 NF3在IC和TFT-LCD應用市場擴展的三階段
5.8 NF3在不同應用領域中應用量的比例
第六章 世界及我國NF3的半導體市場調(diào)查與分析
6.1 世界半導體硅片生產(chǎn)與市場發(fā)展
6.1.1 世界半導體生產(chǎn)的現(xiàn)況
6.1.2 世界半導體硅片的生產(chǎn)狀況
6.2 我國半導體晶圓生產(chǎn)與市場現(xiàn)況與發(fā)展
6.2.1 我國集成電路市場、產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀
6.2.2 我國集成電路晶圓制造業(yè)情況
6.2.3 我國集成電路晶圓主要生產(chǎn)廠家情況
第七章 世界及我國NF3的液晶顯示器市場調(diào)查與分析
7.1 世界平板顯示器產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)況
7.2 我國平板顯示器產(chǎn)業(yè)現(xiàn)況與未來發(fā)展預測
7.2.1 我國液晶顯示產(chǎn)業(yè)發(fā)展概述
7.2.2 我國LCD面板生產(chǎn)現(xiàn)況與未來幾年發(fā)展預測
7.2.3 我國發(fā)展平板顯示產(chǎn)業(yè)的相關政策及未來發(fā)展的預測、分析
第八章 世界及我國NF3的薄膜硅太陽電池市場調(diào)查與分析
8.1 國內(nèi)外光伏產(chǎn)業(yè)的發(fā)展
8.1.1 世界光伏產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展
8.1.2 我國光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展環(huán)境與現(xiàn)況
8.2 薄膜太陽能電池的生產(chǎn)與市場
8.2.1 薄膜太陽能電池特點及品種
8.2.2 薄膜太陽能電池未來市場發(fā)展前景
8.2.3 薄膜太陽能電池生產(chǎn)及在光伏市場上的份額變化
8.3 國內(nèi)外薄膜太陽能電池的主要生產(chǎn)企業(yè)
8.3.1 境外薄膜太陽能電池生產(chǎn)廠家概況
8.3.2 國內(nèi)薄膜太陽能電池生產(chǎn)廠家概況
第九章 世界NF3的生產(chǎn)現(xiàn)狀與發(fā)展
9.1 概述
9.2 世界三氟化氮生產(chǎn)現(xiàn)況
9.3 美國的NF3生產(chǎn)現(xiàn)狀與廠家
9.3.1 美國AP公司
9.3.2 杜邦公司
9.4 日本的NF3生產(chǎn)現(xiàn)狀與廠家
9.4.1 關東電化工業(yè)公司
9.4.2 三井化學公司
9.4.3 中央玻璃公司
9.5 韓國的NF3生產(chǎn)現(xiàn)狀與廠家
9.5.1 AP公司韓國蔚山分廠
9.5.2 韓國SODIFF新素材有限公司
9.6 臺灣的NF3生產(chǎn)現(xiàn)狀與廠家
第十章 我國國內(nèi)NF3的生產(chǎn)現(xiàn)狀與發(fā)展
10.1 國內(nèi)NF3生產(chǎn)的發(fā)展
10.2 國內(nèi)NF3生產(chǎn)需求市場
10.3 國內(nèi)NF3的主要生產(chǎn)廠家
10.3.1 國內(nèi)NF3的生產(chǎn)廠家概述
10.3.2 中核紅華特種氣體股份有限公司
10.3.3 湖北沙隆達天門農(nóng)化有限責任公司
10.3.4 中國船舶重工集團第七一八研究所
10.3.5 其它廠家
10.4 國內(nèi)與NF3氣體相關的科研、協(xié)會機構(gòu)
附件：中華人民共和國國家標準：《電子工業(yè)用三氟化氮 》（GB/T21287-2017）
圖2-1 半導體制造業(yè)用特種氣體按其使用時的特性分類情況
圖2-2 全球半導體工業(yè)用主要幾種高純度氣體的市場規(guī)模變化情況
圖2-3 氟化工產(chǎn)業(yè)鏈的構(gòu)成情況
圖3-1 NF3分子結(jié)構(gòu)圖
圖3-2 SEMI標準中NF3中 CF4、CO2、N2O、SF6和 CO 的分析流程圖
圖4-1 氣-固反應器圖
圖4-2 氣-液反應器圖
圖4-3 氣-液反應法的生產(chǎn)流程圖
圖4-4 電解槽結(jié)構(gòu)圖
圖4-5 低溫精餾過程示意圖
圖4-6 色譜分離氣體流程圖
圖4-7 典型半導體晶元工廠的特氣供應系統(tǒng)流程圖
圖5-1 三氟化氮的主要應用領域
圖5-2 IC硅片制造前工程的過程
圖5-3 各種CVD法反應裝置的原理
圖5-4 PECVD裝置
圖5-5 三氟化氮在半導體芯片加工制造環(huán)節(jié)中的應用示意圖
圖5-6 TFT 陣列構(gòu)成
圖5-7 等離子體CVD加工工序及SiH4等電子特氣的供應系統(tǒng)
圖5-8 所示了采用等離子體CVD法制作TFT陣列的實際裝備例
圖5-9 TFT 陣列形成過程及NF3在采用等離子體CVD法形成TFT 陣列形成中作用
圖5-10 Si基薄膜的種類、特征及晶體結(jié)構(gòu)
圖5-11 Si基薄膜太陽能電池的基本結(jié)構(gòu)
圖5-12 非晶硅薄膜太陽能電池制作工藝過程
圖5-13 NF3不同應用領域中應用量的比例
圖6-1 2017-2021全球半導體市場規(guī)模和年增幅統(tǒng)計預測
圖6-2 世界不同直徑尺寸硅片市場發(fā)展趨勢
圖6-3 2017-2021年全球硅片出貨量變化率
圖6-4 2017-2021年全球硅片銷售收入變化率
圖6-5 全球硅片出貨量按尺寸計預測
圖6-6 2017～2021年我國半導體及集成電路產(chǎn)銷情況
圖6-7 2017-2021年我國集成電路晶圓業(yè)發(fā)展規(guī)模
圖6-8 我國主要集成電路晶圓的生產(chǎn)廠家分布情況
圖7-1 2015年-2021年世界液晶顯示器面板出貨量統(tǒng)計及預測
圖7-2 2017-2021年平板電視在世界主要國家、地區(qū)的普及情況
圖7-3 2017～2021年我國LCD面板的市場規(guī)模統(tǒng)計、預測
圖7-4 我國TFT-LCD面板的產(chǎn)能統(tǒng)計及未來幾年發(fā)展預測
圖7-5 2017年—2021年我國TFT-LCD面板各代線在國內(nèi)總產(chǎn)能的比例變化
圖7-6 我國主要集成電路晶圓生產(chǎn)廠家分布情況
圖8-1 全球光伏市場構(gòu)成
圖8-2 2017～2021年全球及我國光伏市場規(guī)模變化
圖8-3 2021年全球各主要國家及地區(qū)光伏發(fā)電安裝量的份額
圖8-4 2021年全球主要電池組件企業(yè)市場份額分布情況
圖8-5 2017-2021年中國太陽能電池出貨量
圖8-6 2017-2020年中國太陽能電池產(chǎn)量的統(tǒng)計及預測
圖8-7 2017-2021年世界薄膜太陽能電池產(chǎn)能統(tǒng)計及預測
圖8-8 2016-2021年世界薄膜太陽能電池產(chǎn)量統(tǒng)計及預測
圖9-1 2017年至2021年世界NF3實際生產(chǎn)量及生產(chǎn)能力的統(tǒng)計
圖9-2 2017年至2021年世界NF3實際生產(chǎn)量及生產(chǎn)能力年增長率變化
圖9-3 2021年 世界主要生產(chǎn)企業(yè)NF3產(chǎn)品的市場份額
圖9-4 世界NF3主要國家、地區(qū)的生產(chǎn)產(chǎn)能及產(chǎn)能占世界總產(chǎn)能比例
圖9-5 日本1999年～2021年的NF3實際產(chǎn)量（國內(nèi)部分）統(tǒng)計
圖10-1 我國NF3氣體市場需求量的統(tǒng)計及預測
表2-1 電子特種氣體的主要品種及分類
表2-2 常見的電子特種氣體不同純度要求的分類
表2-3 國外主要大型電子特氣企業(yè)在主導生產(chǎn)工藝路線及所達到純度的情況
表3-1 NF3物理性質(zhì)
表3-2 4N高純NF3的主要質(zhì)量指標要求
表3-3 AP公司的NF3的工業(yè)標準
表3-4 AP公司四個等級的NF3技術(shù)標準指標要求
表3-5 SEMI標準中規(guī)定的NF3的物理常數(shù)值
表3-6 SEMI標準中的技術(shù)要求和化學技術(shù)要求
表3-7 三氟化氮國標標準（GB/T 21287-2017）的情況
表3-8 GB/T 21287-2017中規(guī)定的三氟化氮的技術(shù)指標
表3-9 GB/T 21287-2017中的三氟化氮的主要物理參數(shù)
表4-1 NF3的各種制備方法及其采用主要生產(chǎn)廠家
表6-1 2021年世界主要大型半導體廠家的銷售收入統(tǒng)計
表6-2 2009～2021年世界硅片出貨量及銷售收入情況
表6-3 SEMI對世界硅片的出貨量的統(tǒng)計及預測
表6-4 硅片尺寸﹑質(zhì)量要求與所對應的集成電路工藝技術(shù)的發(fā)展
表6-6 2017～2021年我國國內(nèi)半導體級晶圓產(chǎn)量變化統(tǒng)計
表6-7 我國集成電路晶圓制造業(yè)在半導體產(chǎn)業(yè)中占有的比重情況
表6-8 2017年-2021年我國晶圓生產(chǎn)線建線增長情況
表6-9 我國集成電路晶圓制造6英寸以上生產(chǎn)線產(chǎn)能和工藝技術(shù)水平情況
表6-10 至2021年底我國主要集成電路晶圓的生產(chǎn)廠家產(chǎn)能情況
表7-1 LCD中下游市場的劃分
表7-2 全球平板顯示器在不同應用的需求市場的規(guī)模
表7-3 2021年全世界G5以上TFT-LCD產(chǎn)能比較
表7-4 我國TFT-LCD液晶面板線分布
表7-5 我國主要集成電路晶圓的生產(chǎn)廠家產(chǎn)能情況（至2021年底）
表8-1 2021年全球各主要國家及地區(qū)光伏發(fā)電安裝量統(tǒng)計
表8-2 2021全球主要電池組件企業(yè)產(chǎn)能產(chǎn)量情況
表8-3 2017-2021年我國太陽能電池出口情況
表8-4 2017-2021年我國太陽能電池進口情況
表8-5 近幾年全球薄膜太陽能電池產(chǎn)量及市場份額
表8-6 國外主要薄膜太陽能電池生產(chǎn)廠家
表8-7 境外薄膜太陽能電池生產(chǎn)廠家情況
表8-8 我國國內(nèi)薄膜太陽能電池生產(chǎn)廠家的情況
表9-1 2021年世界NF3主要生產(chǎn)企業(yè)的產(chǎn)能、產(chǎn)量情況
表10-1 國內(nèi)三氟化氮主要生產(chǎn)企業(yè)及產(chǎn)能情況(以2021年為計)
表10-2 在我國國內(nèi)與NF3氣體業(yè)相關的協(xié)會機構(gòu)
表10-3 我國開展過對NF3氣體研究的相關科研單位

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